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Phenom Pharos G2:桌面級場發射掃描電鏡的科研應用潛力分析

 更新時間:2026-01-19 點擊量:713

在材料科學與微觀分析的探索中,科研人員往往面臨著一個兩難的選擇:是追求落地式場發射電鏡(FE-SEM)的高分辨率,忍受其龐大的體積、苛刻的環境要求和復雜的制樣流程?還是妥協于普通臺式電鏡的便捷,卻在成像質量上止步不前?

荷蘭飛納(Phenom 給出的答案是:不妥協。

Phenom Pharos G2 臺式場發射電鏡的出現,打破了高性能"小體積"不可兼得的。作為搭載肖特基場發射電子源(Schottky FEG的臺式掃描電鏡,它將科研級的分辨率裝進了桌面級的機身里,讓微觀世界的探索變得自由與高效。

 


 

1. 核心突破:低電壓下的超高清晰

傳統的鎢燈絲電鏡在低電壓下往往成像模糊,而 Pharos G2 得益于高亮度的肖特基場發射電子源,展現了驚人的物理性能。

  • 分辨率優于 1 nm:這不僅是數據的提升,更是視野的質變。

  • 低電壓成像優勢:即使在低加速電壓下,依然能獲得銳利圖像。這意味著對于絕緣材料、聚合物、生物組織等對電子束敏感的樣品,能夠顯著降低熱損傷和穿透效應,還原最真實的表面細節。

2. 效率革命:告別繁瑣,即刻成像

在分秒必爭的研發與質檢現場,時間就是成本。Pharos G2 用戶體驗"提升到了新的維度:

  • 無需噴金,直接觀測:內置的真空鎖設計與低真空模式,允許直接觀察不導電樣品。告別費時的金屬鍍膜前處理,保留樣品原始狀態。

  • 15秒極速抽真空:從放入樣品到出圖,僅需一杯咖啡抿一口的時間。

  • 全自動化操作:結合彩色光學顯微鏡導航與自動馬達樣品臺,30分鐘即可培訓上手。無論是專家還是實習生,都能輕松駕馭。

3. 集成:形貌與成分的一站式分析

它不僅僅是一臺顯微鏡,更是一個微觀分析工作站。設備集成了三大核心功能,無需切換設備即可完成完整表征:

  • 背散射電子成像 (BSE):快速判斷成分分布與襯度。

  • 二次電子成像 (SE):清晰捕捉表面形貌與立體結構。

  • 集成能譜分析 (EDS):高速、穩定地進行元素成分定性與定量分析。

4. 穩如磐石:適應各種復雜環境

不同于落地式電鏡對安裝環境的挑剔",Pharos G2 專為適應性而生。

  • 免防震臺設計:內置 27 組獨立減震模塊,有效隔離環境震動。無論是擁擠的學校實驗室、繁忙的企業研發室,還是空間狹小的辦公區,它都能穩定運行。

  • 免維護電子光路:免調節、免對中設計,極大降低了后期維護難度與成本,確保了設備長期運行的一致性。

 


 

適用領域與應用場景

Pharos G2 的多功能性使其成為跨學科研究的理想伙伴:

  • 新能源與鋰電:正負極粉末形貌分析、隔膜微孔結構觀測。

  • 半導體與微電子:晶圓缺陷檢測、封裝工藝驗證。

  • 材料科學:金屬斷口分析、納米陶瓷微觀結構、高分子復合材料研究。

  • 生物與制藥:生物組織結構觀察、藥物微球分析。

 


 

為什么選擇 Phenom Pharos G2?

在同類產品中,Pharos G2 以其獨特的定位解決了傳統電鏡的痛點:

特性

傳統落地式 FE-SEM

普通臺式 SEM

Phenom Pharos G2

電子源

場發射 (FEG)

鎢燈絲/六硼化鑭

肖特基場發射 (FEG)

分辨率

超高 (<1nm)

一般 (>3nm)

科研級 (<1nm,STEM模式)

占地面積

需要獨立機房

桌面級

桌面級 (無需機房)

抽真空時間

3-5 分鐘

1-3 分鐘

< 15 秒

防震要求

超高 (需防震臺)

一般

內置防震 (適應性強)

Pharos G2 不僅僅是一臺設備,它是連接宏觀制造與微觀機理的橋梁,讓科研級的分析能力觸手可及。

 


 

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